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HCCL和創智云水廠次氯酸鈉發生器 消毒加氯設備
詳細信息| 詢價留言品牌:和創智云 型號:HCCL 加工定制:是 規格:根據定制 凈重:根據定制 耗電量:0.3-30 Kw/h 工作時間:8888 min 額定濃度:8000 ppm 消毒液殺菌率:99.99 % 應用領域:水消毒處理項目 額定濃度:8000 ppm 消毒液殺菌率:99.99 % 水廠次氯酸鈉發生器 消毒加氯設備
次氯酸鈉的滅菌殺*原理大致有如下三種作用方式:- 次氯酸鈉消殺主要的作用方式是通過它的水解形成次氯酸,次氯酸再進一步分解形成新生態氧,新生態氧的極強氧化性使菌體和*上的蛋白質等物質發生變化,從而致死病源微生物。
- 次氯酸在殺菌、殺*過程中,不僅可作用于細胞壁、*外殼.而且因次氯酸分子小,不帶電荷,還可滲透人菌(*)體內,與菌(*)體蛋白、核酸、和酶等有機高分子發生氧化反應,從而殺死病原微生物。
- 次氯酸產生的氯離子還能顯著改變細菌和*體的滲透壓,使其細胞喪失活性消逝。
次氯酸鈉發生器現場制備次氯酸鈉溶液其實主要利用水、電、鹽通過電解的方式現場制備低濃度次氯酸鈉溶液。次氯酸鈉現場制備系統由軟水制備、溶鹽池、次氯酸鈉發生器及配套電源、次氯酸鈉儲存及安全排氫聯動系統、次氯酸鈉投加系統以及控制系統組成。制備完成的次氯酸鈉溶液和少量氫氣進入脫氫系統,采用風機鼓入新風完成低濃度排氫, 次氯酸鈉溶液進入存儲桶等待投加。整個過程中, 需要人工操作的僅是原料食用鹽的投加工作,非常便捷。
山東和創智云環保生產的HCCL系列次氯酸鈉發生器是我公司是公司經過多年的探索,取長補短,利用自己的技術創新,采用新工藝和特殊優質材料研制而成。該產品采用先進的無隔膜電解工藝,陽極采用鈦基納米晶涂層,析氯電位低、電流效率高、抗腐蝕性能優良、電極使用壽命長、電極形狀可以根據用戶需求設計、電極基體可以多次重新使用、對介質不會產生污染、可以承受更高的電流密度,是一款優質、高效的次氯酸鈉消毒設備。在使用設備時要注意安全,下面是設備使用時需要注意的方面:
安全指南
本手冊包括應該遵守的注意事項,以保護人身安全,保護產品和所連接的設備免受損壞,此設備操作人員需要進行培訓才允許安裝和操作該設備,操作人員按規定對設備進行操作,定期對設備進行維護。此設備現場安裝時必須接地保護。
合格人員
設備操作人員必須經過培訓合格后才可以操作此設備,非人員嚴禁操作此設備,未經培訓操作此設備可能會對設備造成損壞及人員損傷。
產品用途
次氯酸鈉發生器系統所產生的產品為含有效氯6000-8000mg/L的次氯酸鈉溶液,此溶液主要用于生活飲用水消毒。由于不同場合水質差異較大,具體投加量應根據實際水質進行投加。
操作安全
不能直接踩踏設備管路,電解槽罐體或設備任何設備,否則可能對設備造成損壞 ,也可能對操作人員造成傷害。次氯酸鈉發生器運行時,必須確保排氫口通風良好,和排氫風機處于運行狀態否則有爆炸危險,對人身及設備造成重大傷害。在次氯酸鈉發生器運行過程中,陰極會緩慢結垢,從而導致槽電壓上升。當達到規定的酸洗周期、整流器的輸出電壓快速升高或設備處理效果出現降低時,要求對電極進行酸洗清垢處理。 -
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